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CVD原石

では、あなたはこれまでに化学気相成長(CVD)について聞いたことがありますか?大きな用語に聞こえても、この技術は私たちの周りにいたるところで使われています。CVD (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) 化学物質は、素材やシステムの表面特性を向上させるために使用されるプロセスであり、一つまたはそれ以上の物質(熱可塑性)が代わりに使用されます。Crysdiam MPCVDリアクター は、極めて高い強度で知られるダイヤモンドなどの材料を扱うために、リーディングカンパニーであるCrysdiamによって採用されています。

 

CVDは特別に設計された低圧チャンバーで行われます。それは、容器内に真空が作られるまでほぼすべての空気を取り除くためです。このプロセスの段階において、ガスは蒸気へと変化する温度まで昇温され、生成された蒸気は見えないガスの雲のように振る舞います。これらの蒸気はその後、表面に堆積し、超薄膜の形成が行われます。プラチナやタングステンなどの材料を使用してガス分子を加熱します。この加熱により分子が分解し、様々な表面に結合できる活性粒子が生成されます。これらの粒子が表面に付着することで、この方法で非常に薄い層の材料が作られます。膜がダイヤモンドまたはシリコンなどで作られている場合、表面を強化し、その性能を向上させることもできます。


CVD粗面の産業応用における利点と課題

電着などの他の表面処理技術と比較して、CVDの優位性は広く知られています。さまざまな表面にダイヤモンドフィルムを追加するという問題は、クライスダイアムが非常にうまく解決します。 機械グレード 加熱し、極限の圧力下で、これらの表面は粗く非常に硬くなります。時間の経過とともに摩耗や損傷に耐えられる強度を持つ品質とタフさを求めている業界において、これは不可欠です。

 

しかし、CVD技術にはまだいくつかの制限があります。比較的低い音声で、難易度が高い部分の一つは、フィルムがどのように仕上がるかを管理することです。一、二枚のフィルムを作成し、視野内に確実に収まるようにしますが、意図した通りではない場合もあります。次の写真をご覧ください。CVDのもう一つの欠点は、このプロセスで使用される装置が非常に高価であり、堆積中に保護された超クリーンな環境を提供する必要があることです。なぜなら、埃やホコリがガスと共に侵入するとフィルムが台無しになる可能性があるからです。Crysdiamは、より高品質なダイヤモンドフィルムを生産できる新しい機械を開発することでこれらの問題を軽減しようと取り組んでおり、同時に生産設備や材料コストも削減しようとしています。


Why choose Crysdiam CVD原石?

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