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Cvd 원석

그러니까 당신은 화학 기상 성장(Chemical Vapor Deposition)에 대해 들어본 적이 있죠? 큰 용어처럼 들리지만 이 기술은 우리 주변 어디에나 있습니다. CVD(CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) 화학 공정은 하나 이상의 물질(열가소성)을 대신 사용하여 재료 및 시스템의 표면 속성을 향상시키는 데 사용됩니다. Crysdiam MPCVD 반응로 은 다이아몬드와 같은 재료를 다루기 위해 선도적인 회사인 Crysdiam에서 사용되고 있습니다. 다이아몬드는 그 엄청난 강도로 유명합니다.

 

CVD는 특별히 설계된 저압 챔버에서 발생합니다. 이는 용기 내부에 진공 상태가 형성될 때까지 거의 모든 공기를 제거하기 때문입니다. 이 과정의 특정 단계에서 가스들은 증기로 변환되는 점까지 온도가 상승하며, 생성된 증기는 가시적이지 않은 기체의 구름처럼 행동합니다. 이러한 증기는 이후 표면에 침착되며 초박막이 형성됩니다. 백금이나 텅스텐 같은 재료를 사용하여 가스 분자를 가열합니다. 이 가열은 분자들을 분리시키며, 다양한 표면에 결합할 수 있는 활성 입자를 형성합니다. 그 후 입자들은 표면에 부착되어 이러한 방식으로 매우 얇은 물질층을 만듭니다. 필름이 만들어진 재료에 따라 — 예를 들어 다이아몬드나 실리콘 — 표면을 강화하고 그 성능을 향상시킬 수도 있습니다.


CVD 거친 표면의 산업 응용에 대한 장점과 과제

전기도금과 같은 대체 표면 처리 기술에 비해 CVD의 우수성은 잘 알려져 있습니다. 다양한 표면에 다이아몬드 필름을 추가하는 문제는 Crysdiam이 기계 등급 매우 잘 해결합니다. 가열하고 극한의 압력 아래에서 이러한 표면들은 거칠어지고 매우 단단해집니다. 시간이 지남에 따라 마모와 손상을 견딜 수 있는 품질과 함께 강도를 찾고 있는 산업에서는 이것이 필수적입니다.

 

하지만 CVD 기술에는 아직 몇 가지 제한 사항이 있습니다. 비교적 낮은 음성 중 하나는 필름이 어떻게 나오는지 관리하는 것이 어려운 부분 중 하나입니다. 1~2개의 필름을 보장하며, 시야 내에 있어야 하지만 의도대로 되지는 않을 수 있습니다. 다음 사진 참조. CVD의 또 다른 단점은 이 과정에서 사용되는 장비가 매우 비쌀 수 있으며, 침착 중에는 먼지와먼지(가스와 함께 들어갈 수 있음)가 필름을 망칠 수 있기 때문에 초청결 환경을 제공해야 한다는 것입니다. Crysdiam은 더 높은 품질의 다이아몬드 필름을 생산할 수 있는 새로운 기계를 개발하여 이러한 문제를 완화하려고 노력하고 있으며, 동시에 생산 장비 및 재료 비용을 낮추고 있습니다.


Why choose Crysdiam Cvd 원석?

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